ופל סיליקון בינוני

ופל סיליקון בינוני

מדיום סיליקון זה בטוהר-גבוהה מתוכנן לתפקד כבסיס עיבוד אמין עבור הארכיטקטורות המיקרו-אלקטרוניות המתקדמות ביותר. אופטימיזציה על פני המלא2 אינץ' (50 מ"מ) עד 12 אינץ' (300 מ"מ)ספקטרום קוטר, מצעים אלה מספקים את היציבות התרמו-מכאנית הדרושה לשילוב מכשירים מורכב,-רב-שלבי בתוך סביבות ייצור מבוקרות ביותר.

יתרונות טכניים עיקריים:

מאפיינים קינטיים מאוזנים:המדיום כולל מבנה חומר מאוזן בקפדנות המשפר את היציבות התרמית והחשמלית. על ידי שמירה קפדנית על שליטהריכוז חמצן רדיאלי ושלמות הסריג, הוא מבטיח התנהגות עקבית במהלך-השתלת יונים באנרגיה גבוהה ומחזורי דיפוזיה תרמית נדיפה.

יציבות שלבים על פני אצוות:המדיום הזה מתוכנן לייצור-בנפח גבוה, מתפקד בעקביות יוצאת דופן בכל מגרש ייצור. יציבות בין-אצווה זו ממזערת את הסחף התהליך ומאפשרת שליטה הדוקה יותר עלמתח סף (Vth) וניידות נושאביישומי Power IC ו-RF.

דיוק-שלמות גיאומטרית מכוונת:המדיום, תוכנן עבור יישומי הדיוק התובעניים ביותר, תומך בשטיחות קיצונית (TTV) ועיוות נמוך. שלמות גיאומטרית זו מאפשרת יישור פוטוליטוגרפי ברזולוציה גבוהה-, המתאם ישירות לעלייה בתפוקה-ברמת רקיק ואמינות המכשיר.

תגיות פופולריות: פרוסות סיליקון בינוניות, יצרני פרוסות סיליקון בינוניים, ספקים, מפעל